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HN—998全光亮化学镀镍工艺
HN--998是新型的无电解化学镀镍—磷合金工艺。该工艺具有极佳的稳定性。镀层含磷量7±2%（wt%），最高沉积率可达27微米/小时。HN--998所提供的是色调赏心悦目的光亮镀层，并具有优良的防腐性能，可广泛用于计算机配件，五金装璜饰品的挂镀，滚镀。
一． 镀层的物理特性
磷含量（wt%） 5—9
镀层密度（g/cm3） 7.8—8.0 熔点（ ℃ ）：880—960
硬度(镀态)： 550—720HV
热处理（400℃ 1小时）后： 900—1000HV
二． 特点
1.特快的沉积速率：18—27微米/小时，前六个周期平均镀速可达19微米/小时以上。
2.较稳定的磷含量，镀层具有优良的防腐和延展性能。
3.极佳的稳定性，最长的使用寿命可超过10个周期。
4.镀液容易操作。
5.较宽的镀液负载范围0.5—3.4dm2 /L.
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